ASML已经完成1纳米光刻机设计:将首先供货台积电和三星、单价突破新高

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摩尔定律的终点是什么?随着5nm光刻机的量产和3nm的突破,摩尔定律的终点变得越来越扑朔迷离。不外可以一定的是,随着随着工艺的进一步提高,其成本也在呈几何增进。

来自日媒的报道称,在不久前举行的线上流动中,欧洲微电子研究中心IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove在线上演讲中示意,在与ASML公司的互助下,加倍先进的光刻机已经取得了希望。

Luc Van den hove示意,IMEC的目的是将下一代高分辨率EUV光刻手艺高NA EUV光刻手艺商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场,现在ASML把握着全球主要的先进光刻机产能,近年来,IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机,现在目的是将工艺规模缩小到1nm及以下。

在本次得ITF Japan 2020线上集会上,IMEC还对外宣布了其3nm、2nm、1.5nm和1nm及以下工艺的逻辑器件路线图。

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据悉,从7nm最先,台积电已经在最先接纳NA=0.33的EUV光刻装备,与前代相比,更高分辨率的装备带来了频率和功耗的提升,也为现在台积电5nm制程提供了基础。

现在ASML已经完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计,至于装备的商业化。要等到至少2022年,而等到台积电和三星拿到装备,之前要在2023年。

随着工艺的不断进步,加倍庞大的光刻系统还将导致装备变得更大,而未来3nm、1nm光刻机的价钱,相比现在也是成倍增进。至于首批客户,没有意外的话将是台积电和三星。

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