原题目：ASML已经完成1纳米光刻机设计：将首先供货台积电和三星、单价突破新高

摩尔定律的终点是什么？随着5nm光刻机的量产和3nm的突破，摩尔定律的终点变得越来越扑朔迷离。不外可以一定的是，随着随着工艺的进一步提高，其成本也在呈几何增进。

来自日媒的报道称，在不久前举行的线上流动中，欧洲微电子研究中心IMEC首席执行官兼总裁Luc Van den hove在线上演讲中示意，在与ASML公司的互助下，加倍先进的光刻机已经取得了希望。

Luc Van den hove示意，IMEC的目的是将下一代高分辨率EUV光刻手艺高NA EUV光刻手艺商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场，现在ASML把握着全球主要的先进光刻机产能，近年来，IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机，现在目的是将工艺规模缩小到1nm及以下。

在本次得ITF Japan 2020线上集会上，IMEC还对外宣布了其3nm、2nm、1.5nm和1nm及以下工艺的逻辑器件路线图。

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据悉，从7nm最先，台积电已经在最先接纳NA＝0.33的EUV光刻装备，与前代相比，更高分辨率的装备带来了频率和功耗的提升，也为现在台积电5nm制程提供了基础。

现在ASML已经完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计，至于装备的商业化。要等到至少2022年，而等到台积电和三星拿到装备，之前要在2023年。

随着工艺的不断进步，加倍庞大的光刻系统还将导致装备变得更大，而未来3nm、1nm光刻机的价钱，相比现在也是成倍增进。至于首批客户，没有意外的话将是台积电和三星。

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